「ヘリウム活用技術」技術開発実態分析調査報告書

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「ヘリウム活用技術」技術開発実態分析調査報告書

2021年12月02日更新

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■パテントテック社 

■編集者:インパテック株式会社
■発刊日:2021年9月27日
■資料体裁:A4判、233頁、簡易製本
■ISBN:978-4-86685-654-4



★他社の技術開発の実態を把握し、勝ち抜くためのエッセンス


■本誌の特徴等
1.調査目的
 「ヘリウム活用技術」に関する出願件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
 (1)「ヘリウム活用技術」についてどのような技術があるか、
 (2)各企業の技術開発はどのように推移しているか、
 (3)国内出願日基準「2009年1月~2021年4月」における関連技術の出現・消失状況はどのようになっているか、
 (4)各企業間の連携状況はどのようになっているか、
 (5)2017年1月~2021年4月における企業および技術の注目すべき動向は何か、
 (6)この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか
等を明確にして、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集方法
 本調査報告書は、「ヘリウム活用技術」の国内出願日:2009年1月~2021年4月に出願された公開特許について、検索、収集した。
また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。
特許情報公報の総数は2,590件である。

3.報告書の構成
 本報告書は、I.~II.の二つの部分から構成されている。
I.パテントマップ編
 A.2017年1月~2021年4月の出願における新規出現した出願人、技術分類による動向分析
 B.全般分析
 C.上位20出願人比較分析
 D.上位5出願人個別分析
 E. 特定3出願人比較分析(1位東京エレクトロン、2位半導体エネルギー研究所、3位アプライドマテリアルズ)
 F. 上位20特許分類分析
 G.特定特許分類分析
  G-1.特定特許分類分析(1)
   ・FIサブグループ分類(深さ13)
   ・Fターム分類(深さ10)
  G-2.特定特許分類分析(2)
   ・Fターム分類(深さ8)
 H. キーワード分析 ※キーワードは発明の名称、要約、請求の範囲、産業上の利用分野、従来の技術から抽出した。
 I. 弁理士(特許事務所)の動向分析

II.パテントチャート編

4. 本報告書の特徴
● 「ヘリウム活用技術」に関する国内出願日:2009年1月~2021年4月の出願、さらには2017年1月~2021年4月の技術動向が分かりやすく把握できる。
● 本技術分野に関連する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる。
● パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい。



はじめに

1.パテントマップ編

A.2017年1月~2021年4月の出願における新規出現した出願人、技術分類による動向分析
 2017年1月~2021年4月の出願における
  ・出願人別出願件数ランキング(上位50)
  ・技術分類(上位50FIサブグループ、上位50Fターム)別出願件数ランキング
  ・出願人別出願件数伸長率マップ(出願件数上位50)
 の4マップを掲載。
 【資料1、2】2017年1月~2021年4月の出願における新規出現したFIサブグループとFタームの分類リスト(上位100)

B.全般分析
 「テーマ」の全体動向について
  ・全体の技術開発ライフサイクル、ファミリー(優先国)マップ
  ・件数推移、出願人数推移、新規発明者数推移、新規技術分類数推移のマップ
  ・出願人、発明者、技術分類ごとの出願件数ランキングマップ
  ・期間、出願人を着眼点とした技術分類別出願件数マップ
  ・出願人、技術分類の出現・消失状況マップ
  ・出願人、発明者、技術分類の伸長率マップ
  などの24マップを掲載。

C.上位20出願人比較分析
 上位20出願人を比較分析するための
  ・期間着目の出願件数比較マップ
  ・出願件数、共同出願人数、新規発明者数推移を比較するマップ
  ・上位20出願人別出願件数最大伸び率・平均伸び率の比較
  ・上位20出願人と技術分類上位20との相関マップ
  ・審査権利状況
  ・出願件数の伸びと技術分類の構成率の比較
  ・技術分類数と発明者数による出願人分布
 など11マップを掲載。

D.上位5出願人個別分析
 上位5出願人をそれぞれ個別に分析を行うための
  ・各出願人の技術分類上位20による出願件数推移マップ
  ・各出願人の技術分類上位40とキーワード上位80による出現・消失状況マップ
  ・各出願人の技術分類上位20による最大伸び率・平均伸び率エクステンドマップ
  ・各出願人の独自技術分類、独自キーワードを分析するマップ
  ・各出願人の共同出願人
 など47マップを掲載。

E.特定3出願人比較分析(1位東京エレクトロン、2位半導体エネルギー研究所、3位アプライドマテリアルズ)
 特定3出願人を比較分析するための
  ・各出願人と全出願人の出願件数推移の比較マップ
  ・各出願人の技術分類の出願件数、出願件数推移の比較マップ
  ・各出願人の出願件数の出現・消失状況、伸び変遷マップ
  ・各出願人と技術分類との相関マップ、出願人の技術分類別ランキングマップ
 など12マップを掲載。

G.上位20特許分類分析
 上位20FIサブグループ、上位20Fタームを分析するための
  ・前期間と後期間による技術分類の出願件数比較マップ
  ・技術分類別の出願人数、発明者数比較マップ
  ・出願件数、出願人数、発明者数の各推移マップ
 など10マップを掲載。

G.特定特許分類分析
 G-1では、FI分類、Fターム分類を各一つ指定し、その技術分類における
  ・出願人別出願件数推移、新規出願人数推移、新規発明者数推移を分析するマップ
  ・分類の出願件数伸長率変遷マップ、出願人別出願件数ランキングマップ
 など12マップを掲載。
 G-2では、さらにFターム分類を複数指定し、それらの技術分類における
  ・出願人別、分類別出願件数の各ランキングマップ及び出願件数推移マップ
  ・分類間、分類と出願人の各出願件数相関マップ
 など13マップを掲載。

H.キーワード分析
  ・キーワードの出現・消失状況を分析するマップ
  ・キーワードの伸長率を分析するマップ
 の2マップを掲載。

I.弁理士(特許事務所)の動向分析
  ・弁理士別の出願件数ランキングマップ、出願件数推移マップ
  ・上位40弁理士と上位20FIメイングループの相関マップ
 の3マップを掲載。

II.パテントチャート編

パテントチャートでは、特定の出願人を指定し
 ・公報図等を含む時系列チャート、Fターム分類と発明者のマトリクスチャート分析
 ・特定Fターム分類の技術分類マトリクスチャート
 ・注目特許のサイテーションマップ
など6マップを掲載。

III. 総括コメント
参考資料
【資料3】上位5出願人の発明者リスト
【資料4】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方









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